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鍍鉻設備鍍鉻層的用途雖然很廣，但是與其他鍍種相比，鍍鉻卻是相當復雜的，而且具有許多工藝特點。鉻在很多介質中都很穩定，這是由于鉻很容易鈍化所造成的，從本質上說，鉻是一個很活潑的金屬，鉻的原子結構也有一些與其他金屬不同的特點，所以在鉻酸溶液中進行鍍鉻時，要在很負的電位下才可以獲得連續的鍍層。與其他金屬電鍍過程相比較，鍍鉻的陰極反應比較復雜，它有金屬鉻的沉積，也有三價鉻的生成，但大量的還是氫的析出，并因此而造成陰極電流效率特別低。從鉻酸根離子還原到金屬鉻的電極反應很復雜，直目前為止，它的中間過程還一直是一個爭論不休的問題。此外，鍍鉻電解液中還必須添加一定的陰離子如S042+一并維持電解液中有一定量的Cr3十，鍍鉻過程才能實現。但超出工藝效果不好，需要處理。尤其是三價鉻。用鍍鉻雜質處理器處理，效果。
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